В 2026 году в России стартует проектирование литографического сканера для выпуска микросхем по топологии 90 нм. О планах по расширению линейки отечественного оборудования сообщил замглавы Минпромторга Василий Шпак, подчеркнув, что проект станет логическим продолжением текущих разработок на 130 нм.
Официальный старт работ намечен на начало 2026 года, а исполнителя выберут по результатам конкурса. Основным претендентом на контракт считается Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ), который в партнерстве с белорусским «Планаром» уже завершил создание установки на 350 нм и сейчас финализирует проект на 130 нм.От 130 нм к новым стандартам
По словам гендиректора ЗНТЦ Анатолия Ковалева, компания планирует сдать степпер на 130 нм в ноябре 2026 года. Переход к более тонкой топологии 90 нм эксперты считают технически достижимым на базе уже созданных решений. Как отмечает независимый аналитик Алексей Бойко, при использовании метода двойного экспонирования текущую платформу можно адаптировать под новые нормы.
Разработка литографа с нуля могла бы занять до 10 лет и потребовать колоссальных инвестиций. Однако модернизация имеющейся базы — замена объективов, лазерных модулей и систем управления — позволит сократить сроки до 2–4 лет. Стоимость предыдущей модели на 130 нм оценивается в $6 млн, тогда как на создание следующего поколения могут потребоваться сотни миллионов долларов.
Риски и дефицит компонентов
Несмотря на амбициозные планы, отрасль сталкивается с нехваткой критически важных материалов. В 2025 году Минпромторг отменил ряд тендеров на производство слитков монокристаллического фторида кальция, необходимых для литографической оптики.
Среди главных барьеров эксперты выделяют:
- отсутствие в России технологий обработки кварца для высокоточных линз;
- дефицит отечественных фотошаблонов и масок под топологию 90 нм;
- необходимость создания полноценной экосистемы, включая специализированное ПО (EDA-инструменты).

Комментарии (0)
Пока нет комментариев. Будьте первым!